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薄膜四探针测定仪
简要描述:薄膜四探针测定仪GB/T14141-2009硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定直排四探针法标配:测试平台一套、主机一套 电源线数据线一套。
更新时间:2024-07-17
产品型号:BEST-300C
厂商性质:生产厂家
访问量:613
品牌 | 北广精仪 | 产地类别 | 国产 |
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类型 | 数字式电阻测试仪 | 应用领域 | 能源,电子,电气 |
薄膜四探针测定仪使用条件:
(1)环境温度:5-+40℃;
(2)环境相对温度:80%以下:
(3)供电电源:220+22V50+1.5Hz;
(4)不应受到剧烈震动和机械冲击;
(5)空气中不应含有足以腐蚀仪器的灰尘和杂质;
(6)不应受强的电磁场干扰;
(7)通风条件良好。
薄膜四探针测定仪对仲裁测量,报告还应包括对探针状况、电测装置的精度、所测原始数据及处理结果。
接通电流,令其任一方向为正向,调节电流大小见表1所给出的某一合适值,测量并记录所得数据。所有测试数据至少应取三位有效数字。改变电流方向,测量、记录数据。关断电
流,抢起探针装置,对仲裁测量,探针间距为1.59mm,将样品分别旋转30°±5,重复8.4~~8.7的测量步骤,测5组数据,测量结果计算
将操针下降到试样表面测试,使四探行针阵列的中心落在试样中心1.00mm范围内。
对于薄层厚度小于3um的试样,选用针尖半径为100um~250um的半球形探针或针尖率径为50um~125pm平头探针,针尖与试样间压力为0.3N~0.8Ni对于薄层厚度不小于3μ的试
样,选用针尖半径为35um~100pm半球形操针,针尖与试样间压力不大于0.3N.
用干净涂题颗子或吸笔将试样置于样品台上,试样放置的时间应足够长,达到热平衡时,试样温度为23℃±1℃.
测量条件和步骤整个测试过程应在无光照,无离频和无振动下进行。
化学实验室器具,如:期料烧杯,里杯和适用于酸和溶剂的涂期惧子等。试样制备如试样表面洁净,符合测试条件可直接测试,否则,按下列步骤清洗试样后测试:试样在甲醇中源洗
1min。如必要,在甲醇中多次源洗,直到被干燥的试样无污迹为止。将试样干燥。放入氧氧酸中清洗1min。用纯水洗净。用甲醇源洗干净,用氨气吹干。
GB/T11073硅片径向电阻率变化的测量方法提要
下列文件中的条款通讨本标准的引用商成为本标准的条。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不用干本标准,然而,励根据本标准达
成协议的各方研究是否可使用这些文件的新版本。凡是不注日期的引用文件,其新版本适用于本标准。GB/T1552硅、储单晶电阻率测定直排四探针法
本标准适用于测量直径大于15.9mm的由外延、扩散、离子注人到硅片表面上或表面下形成的薄层的平均薄层电阴。硅片基体导电类型与被测薄层相反。适用于测量厚度不小于0.2 um
的薄层,方块电阴的测量范围为10A~5000n该方法也可适用干更高或更低照值方块电阴的测量,但其测量精确度尚未评估。
GB/T6617-1995硅片电阻率测定扩展电阻探针法
GB/T1551-1995硅 锗单晶电阻率测定直流两探针法
GB/T1552-1995硅 锗单晶电阻率测定直排四探针法
GB/T6617-2009硅片电阻率测定扩展电阻探针法
电源:220+10%50HZ/60HZ
显示方式:液晶显示
主机外形尺寸:330mm*340mm*120mm
误差:±0.2%读数±2字
量程:1uA,10μA,100μA,1mA,10mA,1000mA?
电流输出:直流电流?0~1000mA?连续可调,由交流电源供电。
分辨率:0.1uV1uV10uV100uV
测量精度±(0.1%读数)
测量电压量程:?2mV?20mV?200mV?2V?
测量误差±5%
分辨率: 最小1μΩ
电导率:5x10-6~1x108ms/cm
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